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类异戊二烯

  我邦液晶面板和半导体行业的火速振兴导致了对光刻胶的庞杂需求,然而因为邦内企业起步晚与时间水准的限定,光刻胶商场的邦产化自给率很低,姑苏瑞红行动邦首要的光刻胶分娩商,其众项时间立异逐渐进步邦内光刻胶分娩时间。

  正在台面功率芯片的缔制中,因为环化橡胶(双叠氮负性光刻胶)具有优越的透光性、粘合性、抗酸抗碱性、耐蚀刻等个性,具有不行取代的效力。然而目前商场利用的环化橡胶正在利用时,因涂布后正在台面管芯分歧地点的胶膜厚度匀称性分别过大,对台面酿成后的芯片维持效益不佳,导致台面涂布时,台面鸿沟地点的光刻胶厚渡过薄,难以拒抗蚀刻液的腐蚀,导致衬底氧化层缺损,以至蚀穿氧化层,惹起维持环地点闪现镀金地步,要紧时氧化层被穿透,导致芯片打火击穿,牢靠性差。同时过低的涂胶转速还不妨导致显影时胶膜溶胀要紧,闪现浮胶、钻蚀等地步。

  针对这一题目,姑苏瑞红公司于2019年10月30日提出一项名为“一种用于台面器件的高涂布匀称性负性光刻胶组合物”的发觉专利(申请号:8.9),申请人工姑苏瑞红电子化学品有限公司。

  此专利为了进步台面芯片上的涂布匀称性,供给了一种用于台面器件的高涂布匀称性负性光刻胶组合物,即一种新的环化橡胶组合物。该质料正在有用维持台面芯片各个地点的衬底,不闪现侵蚀钻蚀题目的条件下,兼容现有的芯片分娩工艺制程,不闪现浮胶、显影不净等质料格外,处理台面器件因侵蚀导致的外观不良和电性格外题目。

  专利实践采用的时间计划席卷环化聚异戊二烯、环化聚丁二烯、光敏剂、偶联剂等。此中环化聚异戊二烯的重均分子量周围为20W~30W,分子量分散Mw/Mn周围为1.0~1.5,环化率65%~80%;环化聚丁二烯的重均分子量周围为3.2W~3.8W,分子分散Mw/Mn周围为1.2~2.4,环化率70%~75%;光敏剂为2,6-二[(4-叠氮基苯基)亚甲基]-4-甲基-环己酮;偶联剂可采用氨丙基三乙氧基硅烷、缩水甘油迷氧基丙基三甲氧基硅烷等。这种新型光刻胶组合物操纵异戊二烯及丁二烯环化橡胶的搭配,竣工同时进步光刻胶台面涂布匀称性及增高光刻胶膜单元厚度下的曝光交联密度的宗旨,加强胶膜的抗酸才具、抗溶胀才具,正在不消重工艺效力的本原上,维持台面玻璃不受侵蚀液腐蚀。

  如图1所示,此专利提出的新型负性光刻胶正在芯片台面涂布后的分歧地点的胶膜厚度匀称性明白优于现有光刻胶。正在操纵光阻法GPP台面芯片涂布后,顶部厚度均匀6.1微米,底部厚度均匀15.5微米,台面拐角厚度均匀可到达3.6微米,完整可能餍足台面衬底维持需求。同时由图可睹显影后并不引入浮胶、显影不良等题目,与分娩工艺完整兼容,芯片侵蚀后衬底维持精良,无玻璃侵蚀地步。可能合用于GPP、TVS、二极管等台面器件的台面光刻安宁面光刻,正在台面的分歧剖面地点,都具有精良的涂布膜厚匀称性。正在保障台面顶部和底部胶膜厚度适中的条款下,大幅度进步台面拐角地点的胶膜厚度,有用的扩充了光刻胶对衬底的维持才具。处理台面器件光刻胶难以精良维持衬底,导致外观及电性格外的题目。

  以上即是姑苏瑞红矫正的新型高涂布匀称性负性光刻胶组合物,跟着邦内正在财富下逛印刷电途板、液晶显示器、芯片行业和邦度科技巨大专项计谋的促进下,邦产厂商如姑苏瑞红曾经竣工了个别时间冲破,信赖跟着半导体行业的起色和中邦人消费需求的进步,光刻胶的进口依赖水准会进一步消重。

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  6月19日,上海新阳正在投资者干系互动平台暗示,受疫情影响,公司合肥第二基地修复与原设计比拟略有延后,估计9月份开工修复。该项目合键从事用于芯片制程利用的症结工艺质料的研发、分娩和发卖,总投资金额约为6亿元。本年年头,上海新阳被评审为“上海市重心实习室”,重心实习室研发主攻对象为集成电途缔制用症结工艺质料,席卷光刻胶、铜互连电镀工艺质料、蚀刻后洗刷液和研磨后洗刷液等。公司光刻胶项目已拟定产物途径图。据分析,上海新阳添置了三台光刻机,目前已有一台到厂运转。按照公司光刻胶项目进度的需求,本年会加大对光刻胶项宗旨参加。目前,上海新阳光刻胶项目已结束实习室研发阶段,入手中试计算。上海新阳称,中芯邦际是公司首要客户之一,公司众款晶圆缔制用工

  指日,深圳市邦得凌触控显示时间有限公司(以下简称“邦得凌”)结束了数百万元的天使轮融资,由本翼科技领投。据本翼资金信息,邦得凌本轮融资将合键用于实习场面的参加和黄光工艺制程中试光阴的研发到中试参加。邦得凌创立于2018年11月,是一家自助研发并分娩有机光阻纳米银线质料及光刻触控sensor的科技企业,创始团队不光具备顶级原质料的打算拓荒才具,并且驾御底层元器件的加工缔制时间,具有竣工先辈质料和先辈缔制一体化的双重立异基因。据悉,邦得凌的焦点时间是光刻胶及联系高分子时间正在触控、显示、半导体等界限立异运用。正在触控界限,邦得凌采用有机光阻纳米银线计划,正在坚持低电阻、信誉娱乐平台高透后、可折叠上风的同时,告成处理了古板纳米银线质料的众种牢靠性不良题目

  及联系高分子时间,邦得凌获百万投资 /

  5月25日,容大感光经受投资者提问时暗示,公司目前可分娩的半导体光刻胶合键为g/i线正性光刻胶、i线负性光刻胶、i线厚膜胶等。合键席卷RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL系列等。公司大亚湾光刻胶及其配套化学品募投项目打算的分娩才具为年产1000吨。容大感光称,本年公司光刻胶项宗旨合键职分之一即是要竣工光刻胶正在新工场的顺手投产、并确保产物德料到达客户的请求,除此除外,公司尚未研商其他的光刻胶扩展规划设计;公司光刻质料及其配套化学品募投项目5月底前可能投产;截止目前,公司尚未与中芯邦际有配合的设计。据布告披露,2017-2019年,容大感光的光刻胶及其配套化学品的发卖额占公司总发卖额辨别为2.96%、3.25

  5月8日,上海新阳正在2019年度网上事迹阐明会上经受投资者提问时暗示,公司KrF厚膜光刻胶配套的光刻机一季度已结束安设调试,目进取入试运转阶段。KrF厚膜中试产线正在安设调试修复当中。目前,公司光刻胶产物还处于实习室研发和中试拓荒阶段,改日合键供职于邦内芯片缔制公司。看待公司两台光刻机何时到位,上海新阳称,公司添置的ArF光刻机计算运输中,年光尚不行确定。I线光刻机已结束招投标,正在举行采购中。其它,公司本年会加大光刻胶交易的参加。而且正在改日几年都邑对光刻胶时间与产物拓荒举行较大参加。除光刻胶外,公司接续环绕电子电镀和电子洗刷两大焦点时间,延续研发立异,无间餍足财富和客户需求,加强我邦半导体症结工艺质料与焦点时间自助可控

  及北美”。疫情之下,行动一种用量大但备货少的质料,光刻胶供应安乐尤为受到合心,而邦内半导体光刻胶厂商目前仅竣工了i线nm)和KrF线nm)两种光刻胶的范畴化量产,看待更高端的ArF以及EUV光刻胶尚未有所冲破。尽量如斯,跟着邦内半导体财富对供应链的安乐愈发注意,各大晶圆厂均加紧与邦产光刻胶厂商的配合,邦产光刻胶厂商也正在努力促进研发进度。光刻胶邦产化迫正在眉睫正在半导体统统的化学品中,光刻胶是价值最贵的质料之一,但有用期却最短(80%以上的光刻胶进厂后有用期仅有90天)。为了避免不需要的糟蹋,晶圆厂平常的原质料库存并不会太众,平淡来说,正在满载的晶圆厂内中需求用到的光刻胶会有30

  邦产化迫正在眉睫 /

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